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C-43型 9英寸高精度國產光刻機多點光源曝光頭是一款專用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件以及聲表面波器件的研制和生產的優(yōu)良設備。其出色之處在于其高度優(yōu)良的找平...

C-43型多點光源曝光頭高精度國產光刻機主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導體元器件和聲表面波器件的研制和生產中使用。C-43的出色之處在于其先進的找平機構，這使...

C-33型 4英寸 國產高精度對準光刻機主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片...

C-33型 國產雙面光刻機 精密光刻設備被廣泛應用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產。它的高級找平機構使其適用于各種材料的曝光，包括...

C-31型 雙面國產光刻機主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片...

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要...

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設備針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25型單面光刻機 高精度主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片...